氧化掩模检测

光学显微镜：使用光学显微镜观察掩模表面，检测是否存在明显的氧化斑点或不均匀区域。

扫描电子显微镜（SEM）：利用SEM查看掩模表面的微观结构，以识别细微的氧化特征和表面变化。

能量色散X射线光谱（EDX）：通过EDX分析掩模上氧化物的元素组成，以验证其化学性质和分布。

表面轮廓仪：使用表面轮廓仪测量掩模的表面形貌，检测因氧化导致的表面粗糙度变化。

光谱反射率测试：通过测量掩模的光谱反射率，分析氧化层的存在和厚度。

X射线光电子能谱（XPS）：使用XPS技术研究掩模表面的氧化层成分和化学状态。

椭偏仪测量：利用椭偏仪技术探测掩模氧化层的光学性质和厚度变化。

电阻率测量：检测掩模表面的电阻率变化，以判断氧化层对导电性能的影响。

接触角测量：测量掩模表面液滴的接触角，观察氧化层对表面能的影响。

1. 光学显微镜：用于观察和检测氧化掩模的表面特征、厚度和均匀性，通过放大微小结构，帮助识别缺陷和不均匀区域。

2. 椭偏仪：通过分析偏振光的变化，测量氧化掩模的厚度和光学常数，提供无损检测的快速手段。

3. 扫描电子显微镜（SEM）：提供高分辨率的表面形貌图像，能够检测小至纳米级的结构与缺陷，适用于详细的局部分析。

4. 原子力显微镜（AFM）：测量氧化掩模的表面粗糙度和纳米级结构，适合高精度的三维表征。

5. X射线光电子能谱（XPS）：用于分析氧化掩模的化学组成和元素化学状态，帮助理解材料特性的变化。

6. 光致发光光谱（PL）：通过分析材料的发光性质，检测氧化掩模中的缺陷和杂质水平，适于非破坏性测试。