点击:丨发布时间:2024-09-21 02:45:18丨关键词:逸出功检测
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北京中科光析科学技术研究所实验室进行的逸出功检测,可出具严谨、合法、合规的第三方检测报告。检测范围包括:金属纳米颗粒、半导体薄膜、合金表面、氧化物涂层、掺杂石墨;检测项目包括不限于能带谱测量、二次电子发射系数测量、光电子谱测量、低能离子轰击等。
光电子能谱法(PES):通过紫外或X射线照射材料表面,引发光电子发射,测量其动能。逸出功通过解析动能与入射光子能量的关系来确定。
接触电位差法(Kelvin探针法):利用振动探针测量样品与参考材料之间的电位差。通过校准和计算,获取样品的逸出功。
场发射显微镜(FEM):在高真空下,利用强电场使电子从针尖或样品表面发射,观察发射图像,并分析发射电流与电场关系推算逸出功。
热电子发射法:加热样品表面以诱发电子发射,测量发射电流随温度变化,并用理查德森-德斯曼方程计算逸出功。
电容耦合放电法:通过在特定电容条件下诱发材料表面电荷移动,分析放电特性以得到逸出功。
逸出功检测仪器利用光电效应测量固体表面逸出电子所需的最小能量。通常用于材料科学,帮助了解材料的表面特性与电子结构。
光电子能谱仪可以精确测量从样品表面逸出的电子的能量分布,从而计算出材料的逸出功。此仪器在分析材料组成、化学状态和电子结构中非常有效。
凯尔文探针表面电势测量仪用于比较不同材料的逸出功,通过测量表面电势差来直接推断出逸出功数值,常用于比较分析材料性能。
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