掩模检测

图像预处理：首先对输入图像进行预处理，包括灰度化、边缘检测等，以减少噪声和提高检测精度。

特征提取：通过使用卷积神经网络（CNN）等机器学习算法，从预处理后的图像中提取出特征，例如边缘、纹理等。

候选区域生成：利用滑动窗口或选择性搜索等方法，在图像中生成多个候选区域，这些区域可能包含掩模部分。

分类器应用：对生成的候选区域应用训练好的分类器，例如支持向量机（SVM）或深度学习模型，判断这些区域是否包含掩模。

后处理：对分类结果进行后处理，包括非极大值抑制（NMS）等操作，以消除重叠区域并最终确定掩模的位置。

光学测量显微镜：用于高精度地观测和测量掩模的特征尺寸和表面缺陷。通过显微镜进行光学放大，可以检查掩模图案的完整性和一致性。

激光干涉仪：利用激光干涉技术，测量掩模表面平坦度和表面层厚度。干涉图样可以反映出表面微小的高低变化，便于检测掩模的形貌误差。

扫描电子显微镜（SEM）：使用电子束扫描掩模表面，能够放大到纳米级别，适用于细节观察和高分辨率成像，特别是在分析掩模特征和寻找微小缺陷时效果显著。

自动光学检测仪（AOI）：这是一种非接触式自动检测设备，专门用于快速地识别掩模上可能存在的缺陷。AOI能自动扫描掩模表面并对比标准图案，找出差异点。

共焦显微镜：该仪器能够提供高对比度的三维影像，可以检测到掩模表面上的微小缺陷以及掩模层内部的结构变化，用于高分辨率的深度分析。

原子力显微镜（AFM）：通过探针在掩模表面进行扫描，获得非常高分辨率的表面拓扑信息，可以测量到表面粗糙度和细微结构变化。

X射线光电子能谱仪（XPS）：用于掩模表面成分分析，能够提供掩模材料的化学成分和元素组成信息，可以帮助了解掩模制作中的材料问题。

临近场光学显微镜：采用超高分辨率的光学技术，通过近场光学效应，可以探测到掩模表面和内部的细微结构变化，适用于精密测量和检测。

聚焦离子束（FIB）显微镜：这类仪器利用离子束进行高分辨率的掩模表面和内部结构的切片和观察，特别适用于分析掩模缺陷的内部结构和组成。