异质结检测

点击:丨发布时间:2024-10-10 13:51:58丨关键词:异质结检测

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北京中科光析科学技术研究所实验室进行的异质结检测,可出具严谨、合法、合规的第三方检测报告。检测范围包括:硅片、玻璃衬底、有机薄膜、量子点、铟锡氧化物膜、硒化铜铟;检测项目包括不限于材料成分分析,界面显微分析,薄膜厚度测量,光学吸收谱测量,电等。

检测范围

硅片、玻璃衬底、有机薄膜、量子点、铟锡氧化物膜、硒化铜铟镓、钙钛矿膜、氮化镓、氧化锌纳米线、碳纳米管、二硫化钼、石墨烯、碲化铋膜、铜氧化物膜、记忆合金膜。

检测项目

材料成分分析,界面显微分析,薄膜厚度测量,光学吸收谱测量,电导率,迁移率,载流子浓度测定,界面势垒高度,表面态密度测定,光电流响应,光致发光谱测量,掺杂浓度分布,拉曼光谱分析,X射线衍射分析,电子能谱分析,电容-电压特性,漏电流测量,接触电阻,光激发电子寿命,热稳定性,热膨胀系数测定,从头计算模拟分析,显微拉曼成像,霍尔效应测量,时间分辨光谱分析。

检测方法

透射电子显微镜(TEM):利用透射电子显微镜的高分辨率,观察异质结界面的原子结构、晶体缺陷以及成分分布。

扫描电子显微镜(SEM)与能量色散X射线谱(EDX):组合使用,通过SEM获得样品表面形貌,并用EDX分析元素分布,确定异质结的材料组成。

X射线衍射(XRD):通过分析异质结的X射线衍射图谱,确定晶体结构和界面应力,评估材料的晶体质量。

二次离子质谱(SIMS):通过分析样品的二次离子,检测异质结中元素的深度分布,实现高灵敏度的成分分析。

光致发光光谱(PL):在非接触、非破坏性条件下,通过测量异质结的光致发光特性,评估界面特性和载流子复合行为。

电容-电压(C-V)特性测量:通过分析异质结的电容-电压特性,确定界面态密度及电学性质。

检测仪器

扫描电子显微镜 (SEM):用于观察异质结的表面形貌,可以获取表面结构的高分辨率图像,帮助分析界面特性。

透射电子显微镜 (TEM):通过透射电子束分析异质结的内部结构,提供原子级分辨率的信息,适用于研究界面精细结构。

能量色散X射线谱 (EDS):与SEM或TEM结合使用,可以分析异质结中的元素组成和分布。

X射线衍射仪 (XRD):用于分析异质结材料的晶体结构、相组成和应力状态,通过检测衍射图谱来获得相应信息。

光谱椭偏仪:用于测量薄膜厚度和光学常数,帮助分析异质结的光学特性。

原子力显微镜 (AFM):用于测量异质结表面的形貌和粗糙度,提供表面形貌的三维信息。

光致发光谱仪 (PL):用于研究异质结的光学特性和发光特性,分析光学跃迁和能级结构。

二次离子质谱 (SIMS):用于分析异质结中元素的深度梯度分布,提供深度分辨率的化学成分信息。

电学测试仪器:例如霍尔效应仪、IV测试仪,用于测量异质结的电学性能,包括电导率、载流子浓度和迁移率等。

国家标准

如果您需要指定相关标准,或要求非标测试、设计试验等,请与工程师联系!

NB/T 11223-2023  硅基薄膜异质光伏组件技术要求