点击:丨发布时间:2025-02-18 17:16:03丨关键词:氢化氧铪测试案例,氢化氧铪测试范围,氢化氧铪测试标准
参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
氢化氧铪(HfO₂·xH)检测主要针对以下关键指标:
化学组成分析:HfO₂与结合氢的摩尔比测定,杂质元素(如Zr、Y)含量检测
晶体结构表征:单斜相/四方相比例、晶格参数、结晶度分析
物理性能测试:密度(4.5-5.7 g/cm³)、维氏硬度(8-12 GPa)、热膨胀系数(5.5×10⁻⁶/℃)
表面特性检测:表面粗糙度(Ra≤0.5nm)、氧化层厚度(2-50nm)、界面缺陷密度
功能特性评估:介电常数(20-25)、漏电流密度(<1×10⁻⁷ A/cm²)、抗辐射性能
应用领域 | 检测重点 | 技术标准 |
---|---|---|
半导体器件 | 高k栅介质薄膜质量 | JESD22-A120D |
核反应堆 | 中子吸收涂层完整性 | ASTM E521-16 |
光学镀膜 | 折射率(2.0-2.1)均匀性 | ISO 9211-4 |
催化剂载体 | 比表面积(50-200 m²/g) | ISO 9277:2010 |
X射线衍射(XRD)
采用Bruker D8 Advance型衍射仪,Cu Kα辐射(λ=1.5406Å),扫描范围10°-80°,步长0.02°,通过Rietveld精修计算相组成。
X射线光电子能谱(XPS)
使用Thermo Scientific K-Alpha+系统,单色化Al Kα射线(1486.6eV),结合能校正采用C1s(284.8eV),深度剖析采用Ar+溅射(1kV)。
飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)
ION-TOF V型设备,Bi³⁺初级离子束(25kV),分析区域100×100μm²,检测H⁻(m/z=1)、HfO₂⁻(m/z=210)等特征碎片。
椭偏光谱法
J.A. Woollam M-2000UI型椭偏仪,光谱范围245-1700nm,入射角65°-75°,通过B-spline模型拟合获取膜厚与光学常数。
Hitachi SU8220:分辨率0.8nm@15kV,配备牛津X-MaxN 150能谱仪
JEOL JEM-ARM300F:点分辨率0.07nm,STEM模式下HAADF探测器
Agilent 8900:质量范围2-260amu,检出限<0.1ppt,搭配激光烧蚀系统
Thermo Nicolet iS50:光谱范围7800-350cm⁻¹,DTGS检测器,ATR附件
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