干涉显微术检测

点击：丨发布时间：2025-03-21 11:53:51丨关键词：干涉显微术测试周期,干涉显微术测试案例,干涉显微术测试方法

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参考周期：常规试验7-15工作日，加急试验5个工作日。

因业务调整，暂不接受个人委托测试，望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师。

检测项目

表面粗糙度测量：Ra（0.1nm-10μm）、Rz（1nm-100μm）、Sa（三维粗糙度）

薄膜厚度分析：单层膜（1nm-50μm）、多层膜（层间分辨率≥5nm）

微结构高度测量：台阶高度（0.5nm-1mm）、沟槽深度（10nm-500μm）

面形误差检测：平面度（λ/20@632.8nm）、曲率半径（±0.1%）

缺陷表征：划痕宽度（0.2-200μm）、颗粒污染尺寸（50nm-50μm）

检测范围

光学元件：透镜、棱镜、反射镜等镀膜/非镀膜表面

半导体晶圆：硅片、GaAs衬底、光刻胶图形

金属材料：铝合金阳极氧化层、钛合金抛光面

高分子材料：聚合物薄膜（PET/PC/PMMA）、微流控芯片

生物医学材料：人工关节表面涂层、药物缓释膜层

检测方法

ASTM E284-17：光学表面特性表征标准

ISO 4287:1997：表面粗糙度参数定义与测量

ISO 25178-2:2022：三维表面纹理分析规范

GB/T 30656-2014：纳米薄膜厚度测量方法

GB/T 3505-2009：表面结构轮廓法术语定义

检测设备

Zygo NewView 9000：白光干涉显微镜，垂直分辨率0.1nm，最大视场10mm×10mm

Bruker ContourGT-X3：相移干涉仪，支持20×~150×物镜切换，Z轴重复性＜0.15nm

Taylor Hobson CCI HD：相干扫描干涉系统，测量速度15帧/秒，动态范围1mm

Sensofar S neox：3D光学轮廓仪，集成PSI/VSI模式切换功能

Nikon Eclipse L200N

检测设备

Zygo NewView 9000：白光干涉显微镜，垂直分辨率0.1nm，最大视场10mm×10mm

Bruker ContourGT-X3：相移干涉仪，支持20×~150×物镜切换，Z轴重复性＜0.15nm

Taylor Hobson CCI HD：相干扫描干涉系统，测量速度15帧/秒，动态范围1mm

Sensofar S neox：3D光学轮廓仪，集成PSI/VVI模式切换功能

Nikon Eclipse L200N：激光干涉显微镜，配备405nm/650nm双波长光源

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。