电子束光刻胶检测

点击：丨发布时间：2025-03-28 10:12:25丨关键词：电子束光刻胶测试机构,电子束光刻胶测试标准,电子束光刻胶测试案例

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参考周期：常规试验7-15工作日，加急试验5个工作日。

因业务调整，暂不接受个人委托测试，望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师。

检测项目

1.灵敏度测试：测量临界剂量（D_c），单位μC/cm，范围0.1-100μC/cm

2.分辨率验证：最小可分辨线宽≤10nm（加速电压50kV时）

3.对比度分析：γ值测定（典型值2.0-5.0），采用阶梯曝光法

4.显影速率测试：显影液浓度0.1-2.6NNaOH溶液中的溶解速率（nm/s）

5.抗蚀刻性评估：干法刻蚀选择比（≥1:3），等离子体功率100-500W条件下测试

检测范围

1.正性电子束光刻胶：PMMA系列（分子量50k-950k）、ZEP520A等

2.负性电子束光刻胶：HSQ（氢倍半硅氧烷）、SAL601系列

3.高分辨率金属有机化合物：AlOx、TiOPc等无机-有机杂化材料

4.多层堆叠结构：PMMA/HSQ双层胶、三明治结构抗反射层

5.新型自组装材料：嵌段共聚物DSA材料（PS-b-PMMA等）

检测方法

ASTMF76-08(2016)：电子束敏感材料电性能标准测试方法

ISO14644-1:2015：洁净环境中的颗粒污染度测试

GB/T16594-2008：微米级长度扫描电镜测量方法

ISO21222:2020：表面化学分析-电子能谱法测定元素含量

GB/T35097-2018：微纳加工技术术语与测试规范

检测设备

1.电子束曝光系统：JEOLJBX-9500FS（加速电压50-100kV，束斑直径2nm）

2.场发射扫描电镜：HitachiSU8200（分辨率0.8nm@15kV）

3.椭偏仪：J.A.WoollamM-2000DI（膜厚测量精度0.1nm）

4.台阶仪：BrukerDektakXT（垂直分辨率0.1）

5.等离子体刻蚀机：OxfordInstrumentsPlasmaPro100Cobra（ICP/RIE双模式）

6.原子力显微镜：BrukerDimensionIcon（ScanAsyst模式）

7.X射线光电子能谱仪：ThermoScientificK-Alpha+（单色AlKα源）

8.傅里叶红外光谱仪：PerkinElmerFrontierMIR/FIR（光谱范围7800-350cm⁻）

9.动态力学分析仪：TAInstrumentsQ800（温度范围-150~600℃）

10.纳米压痕仪：KeysightG200（载荷分辨率50nN）

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。